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可清洗污漬 |
清潔污垢使用示例 |
對(duì)工件的損傷 |
頻率 |
特征 |
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可見(jiàn)污垢 |
金屬零件的油脂脫脂；拋光臘的清洗;去除芯片的表面雜質(zhì)。 |
大 ↓ 小 |
28KHZ |
清潔能力是很強(qiáng)的,用來(lái)清潔頑固的污漬, 如脫脂、除臘。對(duì)幫助清潔液提高效率的作用非常明顯。 |
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超過(guò)10μm |
液晶玻璃清洗時(shí)收到的灰塵精密金屬零件清洗 |
40KHZ |
在精密零件清洗中使用時(shí)比28KHZ對(duì)工件的損傷小。 |
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5μm～10 μm |
硬盤(pán)和 CSP 板, 精密金屬零件, 光盤(pán), 高清清洗頭 |
80~120 KHZ |
通常用于在40赫工作時(shí)損壞。 清潔能源的頻率也相對(duì)較強(qiáng), 對(duì)暴發(fā)戶(hù)的損害較小。 |
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1μm～10 μm |
復(fù)合晶片硬盤(pán) |
120~ 200KHZ |
接受, 如使用的晶片。 工件的損壞小, 去除污垢。 |
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0.2 μm～5μm |
硅片garath 維阿玻璃 |
400kHz |
微粒去除是寬廣的, 并且有各種各樣的期望精確清洗。 |
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0.2μm～1μm |
玻璃基片和晶片 (電路)、乳液的最終清洗 |
1MHZ |
用于去除微粒, 如肉眼看不見(jiàn)的粒子。 對(duì)工件的損壞較小。 晶片清洗, 引起了人們的廣泛關(guān)注。 |
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